Princeps Munditia 99.95% Wolframium Exputrium Target
Typus et Location
| Product Name | Wolframium (W-1) putris target |
| Praesto Puritas(%) | 99.95% |
| Figura: | Tabula, rotunda, in gyrum |
| Magnitudo | Altera magnitudine |
| Punctum liquescens (℃) | 3407(℃) |
| Volumen atomicum | 9.53 cm3/mol |
| Densitas (g/cm) | 19.35g/cm³ |
| Temperatus resistendi coefficiens | 0.00481 I/℃ |
| Sublimatio calor | 847.8 kJ/mol(25℃) |
| Latens calor exustio | 40.13±6.67kJ/mol |
| Superficies status | Poloniae vel alcali lava |
| Applicatio: | Aerospace, rara terrae ustio, fons lucis electricae, instrumentum chemicum, instrumentum medicinae, machinamenta metallica, excoquunt. |
Features
(1) Levis superficies sine pore, scabies et alia imperfectio
(II) Molere seu torno ore, non incisuras marcas
(3) Invicta lerel puritatis materialis
(4) High duclity
(V) Homogenea micro trucalture
(6) Laser notans pro speciali Item nomine, notam, puritatem magnitudine et sic porro
(7) Omnis pcs salientis ex materia pulveris item & numero, opificum mixtionis, temporis outgas et HIP, machinatio personarum et sarcinarum singulae omnes nosmetipsos fecerunt.
Applications
1. Gravis modus ad materiam tenuandam putris - novus modus depositionis vaporis physici (PVD).Tenuis cinematographica fabricata per densitatem altam et bonam adhaesiveness designatur.Magnetron putris artificiis late applicatis, altae metallicae purae et scutorum mixturae in magna necessitate sunt.Cum alto puncto liquescens, elasticitas, humilis coefficiens expansionis scelerisque, resistivity et caloris stabilitatis subtilis, scuta pura et tungsten mixturae late adhibentur in ambitu semiconductoris integrati, duo-dimensionales ostentationis, photovoltaicae solaris, X radius tubus et superficies machinalis.
2. Laborare potest cum putris tam vetustis quam machinationibus ultimi processus instrumentorum, ut magna area efficiens energiam solarem vel cellulas focales et applicationes flip-chip.
Related Products
-
Tungsten Copper Alloy Rods
Descriptio Cupri tungsten (CuW, WCu) agnita est ut materia composita valde conductiva et rasura resistens, quae late adhibetur ut electrodes aeris in EDM machinatione et resistentia applicationes glutinosae, contactus electricae in applicationibus altae intentionis, et calor deprimens et alia sarcina electronica materias in applicationibus scelerisque.Rationes aeris frequentissimae sunt WCu 70/30, WCu 75/25, WCu 80/20.Othe...
-
Niobium Wire
Descriptio R04200 -Type 1, Reactor gradus incorruptus niobium;R04210 -Type 2, Commercial gradus incorruptum niobium;R04251 -Type 3, Reactor gradus niobium mixturae continens 1% zirconium;R04261 -Type 4, Commercialis gradus niobium mixturae continens 1% zirconium;Typus et Magnitudo: immunditiae metallicae, ppm max per pondus, Libra - Niobium Elementum Fe Mo Ta Ni Si W Zr Hf Content 50 100 M 50 50 300 200 200 200 Immunditiae Metallicae Non-Metallicae, ppm max ex pondere...
-
Molybdenum Cuprum Alloy, MoCu Alloy Sheet
Type and Size Material Mo Content Cu Content Densitas Thermal Conductivity 25℃ CTE 25℃ Wt% Wt% g/cm3 W/M∙K (10-6/K) Mo85Cu15 85±1 Libra 10 160-180 6.8 Mo80Cu20 80±1 Libra 9.9 170-190 7.7 Mo70Cu30 70±1 Libra 9.8 180-200 9.1 Mo60Cu40 60±1 Libra 9.66 210-250 10.3 Mo50Cu50 50±0.2 Libra 9.54 230-270 11.5 Mo40Cu60 40±0.2 Libra 9.42 ...
-
Molybdenum Caloris scutum & Purum Mo screen
Descriptio caloris Molybdeni partes protegens cum densitate alta, dimensionibus exactis, superficies lenis, convenientia et consilio rationabili, magnam habet significationem in melius trahendo crystallum.Cum partes caloris clypei in fornace sapphiri incrementi, praestantissimum munus molybdaeni caloris clypei (molybdaei reflexionis scuti) est calorem impedire et reflectere.Molybdaeni calor scuta etiam in aliis adhiberi possunt, ne calor occas...
-
Lanthanated tungsten Alloy Rod
Description Lanthanated tungsten est lanthanum oxidizatum stannum tungstenum tinctum, in genere terrae rarae oxidized tungsten (W-REO).Cum lanthanum oxydatum dissipatum additur, lanthanated tungsten ostendit resistentiam caloris auctam, conductivity scelerisque, resistentiam repentes, et temperatura recrystallizationem alta.Hae proprietates praestantes adiuvant electrodes lanthanated tungsten ad eximiam obeundis facultatem in arcu incipiendi, arcus exesa ...
-
Tantalum Sputtering Target - Disc
Descriptio target salientis Tantalum maxime applicatur in industria semiconductoris et industria efficiens optica.Varias species tantalum putris scuta fabricamus, petentibus clientibus ab industria semiconductoris et industria optica per vacuum EB fornacis methodi conflantis.Cautivi processus volubilis singularis, per varios curationes et accuratam temperiem et tempus furnum, diversas dimensiones producimus.
